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华为Mate 60 Pro应该是最近全球最为热门的话题，因为它的出现意味着我国彻底解决了芯片领域的难题，当然，目前解决问题的仅限于华为，不过，伴随着产业链的不断升级完善，相信很多国内企业都将能够拥有安全、可靠的芯片供应链，届时，将真正给美芯片巨头带来冲击，毕竟本质上，在芯片设计方面，我国并不弱，华为、中兴等企业都有强大的芯片设计能力，唯一就是在芯片制造上依赖产业链关系。

可是，在过去，由于欧美企业的技术优势，所以海外供应链体系都被美国把控，这就让华为在2019年遭遇到了至暗时刻，但是，现在就不一样了，我们的供应链开始变得自主可控和安全了。

当然，想要真正的让我国的芯片产业链做大做强，核心依旧绕不开EUV光刻机，毕竟就目前的情况来说，EUV光刻机是实现高端芯片制造最核心的设备之一，同时也是制造难度最大的设备。

不过，就在最近，伴随着华为Mate 60 Pro发布之后，中国再一次放出了大招，而这则消息估计也是让拜登气疯了，因为根据国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》显示，现阶段，该所团队研制的锡液滴发生器实验装置，在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径~40 μm，间距~230 μm，工作时长接近5h。锡液滴在10s短时间内，竖直和水平方向的位置不稳定性分别为2μm和1μm左右。

这里需要解释说明的一点是，锡液滴发生器是EUV光刻机光源中极为重要的设备，但是，从以上的数据来看，国产锡液滴发生器和ASML公司研发的还有一定差距，但是这个差距已经在缩小，我们已经找到了突破EUV光刻机光源的解决方案，相信随着时间的推进，我们一定可以突破EUV光刻机技术。

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